納濾清洗溶液

溶液1

%檸檬酸pH=2清洗液。對于去除無機鹽垢，金屬氧化物/氫氧化物及無機膠體十分有效。

注意：檸檬酸具有很好的螯合性，不能用氫氧化鈉調解pH值。

溶液2

無機垢污染嚴重，可以選擇用HCl清洗，調節pH=。

溶液3

NaOH和%Na—EDTA調PH=11。專用于去除硫酸鈣垢 純水設備和輕微至中等程度的天然有機污染。    

Na—EDTA是一種具有螯合性的有機螯合清洗劑，可以有效去除二價和三價陽離子和金屬離子。

溶液4

質量分數%氫氧化鈉和%十二烷基磺酸鈉（SDS）高PH(PH=混合液。用于去除天然有機物污染，無機/有機膠體混合污染物和微生物污染。SDS是一種陰離子表面活性劑型的清洗劑。

納濾膜、反滲透的清洗方法

確定清洗液前對污染物進行化學分析是十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，實驗室純水設備應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。

納濾、反滲透膜元件的化學清洗步驟

（1）根據污染物選擇清洗劑。用膜產水作溶劑，純水設備配制相應規定濃度、規定量的清洗液。應確保在進入元件循環之前，所有的清洗化學品得到很好的溶解和混合。

（2）確保管路閥門開、閉正確。

（3）開清洗泵，低流量輸入清洗液，到膜元件中原水全部被排放為止。

（4）當原水被置換掉后，管路中就應該出現清洗液，讓清洗液循環返回清洗液水箱。循環清洗液時及時添加藥品，保證清洗液不發生變化。

（5）浸泡。停止清洗泵的運行，讓膜元件完全浸泡在清洗液中。元件浸泡時間30分鐘。為了維持浸泡過程的溫度，可采用很低的循環流量。浸泡時間隨污染嚴重程度而定，對于重度污染，浸泡3-6小時足夠。

高流量水泵循環，一般循環30分鐘。高流量能沖洗掉被清洗液清洗下來的染物。

沖洗。一般浸泡30分鐘，循環30分鐘。循環3次后用清水沖洗清洗液，直到清洗被完全排到為止。

重新啟動系統。必須等待元件和系統達到穩定后，記錄系統重新啟動后的參數，清洗后系統性能的時間取決于原先污染的程度，為了獲得最佳的性能，有時需要多次的清洗和浸泡步驟。

注：

1.在任何情況下不要讓帶有游離氯的水與復合膜元件接觸，如果發生這種接觸，將會造成膜元件性能下降，而且再也無法恢復其性能，純水設備在管路或設備殺菌之后，應確保送往膜元件的給水中無游離氯存在。實驗室純水設備在無法確定是否有游離氯時，應通過化驗來確證。應使用亞硫酸氫鈉溶液來中和殘余氯，并確保足夠的接觸時間以保證反應完全。

2.在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑，因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉的污染。純水設備，實驗室純水設備，無錫純水設備,無錫水處理設備，無錫去離子水設備, 醫用GMP純化水設備。